二手宇晶9B双面抛光机-平面研磨机-双面减薄机
更新时间：2022-06-17 浏览数：1476
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用途：1.广泛应用于各种材料的双面研磨抛光2.研磨后可达到≤0.002mm的平面误差3.本设备适用于超大工件对平面度/平行度要求超高的零件加工/手机玻璃/晶体/陶瓷/蓝宝石英/不锈钢金属特点：1.整机的传动运作采用独立电机拖动，上下磨盘及内齿均可单独调速和单独设置转向，满足不同工艺的加工要求及修盘需求2.外齿圈有自动升降和点动升降功能，方便在加工过程中快速取放工件又满足改变游星轮的高低位置要求3.采用日本高精密调压装置，满。 详细介绍>>
