二手平面抛光机 20B双面抛光机

B双面研磨抛光机国产品牌：广州环宇13.6B湖南宇晶9B兰州瑞德15B产品用途本机主要用于8英寸以下硅片、光学玻璃、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的双面研磨，也可用于其它硬脆材料的双面高精度研磨加工。设备基本参数3.1、研磨盘尺寸：φ1355mm×φ458mm×50mm3.2、游轮参数：公制：Z＝170M=3α=20°3.3、最小抛光厚度：0.40mm3.4、下盘转速：0-60rpm3.5、主电机：11kWAC380V1450rpm3.6、齿圈电机：4kWAC380V1440rpm3.7、太阳轮电。 详细介绍>>